Smee presenta le nuove macchine per la litografia SSC800 e SSB800 con componenti al 90% cinesi

L'azienda cinese Shanghai Micro Electronics Equipment (Smee) ha presentato i nuovi sistemi di litografia SSC800 e SSB800 durante la fiera CIIE di Shanghai, svoltasi tra il 5 e il 10 novembre. Queste macchine, fondamentali per la produzione di semiconduttori, si distinguono per l'utilizzo di oltre il 90% di componenti realizzati localmente in Cina, riducendo la dipendenza dalle forniture estere.

Il modello SSC800 sfrutta la tecnologia KrF (litografia a ultravioletto profondo o DUV) ed è progettato per la produzione di circuiti integrati con processi produttivi a partire da 110 nanometri. Questa configurazione è destinata alla fabbricazione di componenti per sistemi di intelligenza artificiale, calcolo ad alte prestazioni e chip di memoria. Il secondo modello, denominato SSB800, opera invece con tecnologia I-line nell'intervallo ultravioletto dello spettro ed è ottimizzato per standard da 280 nanometri, applicati nella produzione di semiconduttori analogici, di potenza e sistemi microelettromeccanici (MEMS).

Secondo i dati forniti dal produttore, i macchinari hanno già avviato la produzione di massa e hanno lavorato complessivamente oltre 10 milioni di wafer di silicio. La dotazione tecnica include un'ottica di proiezione interamente sviluppata in Cina e un sistema di gestione dei wafer a due posizioni. Le prestazioni dichiarate in termini di precisione nell'allineamento degli strati e produttività complessiva si avvicinano ai parametri dei sistemi analoghi di produzione internazionale della stessa classe.

Attualmente, le macchine Smee sono operative presso i principali stabilimenti cinesi specializzati nella produzione di chip logici e memorie, con un tasso di disponibilità operativa superiore al 92%. Fondata nel 2002, la società è l'unico produttore cinese in grado di fornire stabilmente unità di litografia a proiezione secca prodotte in serie. Questa evoluzione tecnologica avviene in un contesto di restrizioni commerciali, dato che l'azienda è stata inserita nella lista delle limitazioni all'esportazione degli Stati Uniti nel dicembre 2022.

Parallelamente allo sviluppo delle tecnologie a proiezione secca, la Cina sta portando avanti la ricerca sulla litografia DUV a immersione. Sebbene una società statale abbia già avviato la produzione di massa di tali sistemi, il divario tecnologico rispetto ai leader di mercato come l'olandese ASML rimane evidente. I nuovi modelli SSC800 e SSB800 rappresentano dunque un passo verso l'autosufficienza in segmenti specifici della filiera dei semiconduttori, garantendo la fornitura di componenti essenziali per l'industria nazionale.